uv光解除臭设备处理工艺
未知, 2021-06-24 15:18, 次浏览
uv光解除臭设备处理工艺
uv光解除臭处理技术介绍
本产品采用***殊的高能、高臭氧紫外光束照射恶臭气体和二氧化钛进行光催化,将恶臭气体如氮气、三甲胺、硫化氢、甲基硫化物、甲硫醇、硫化物H2S、VOC、苯、甲苯、二甲苯等的分子链结构催化裂解,使有机或无机高分子恶臭化合物的分子链在高能紫外光束照射下降解为CO2、H2O等低分子化合物。
二氧化钛的光催化活性在很***程度上影响光催化反应速率,而二氧化钛的光催化活性主要受二氧化钛的晶型和粒径的影响。锐钛矿型二氧化钛具有高催化活性。随着粒径的减小,电子和空穴简单复合的几率降低,光催化活性增加。此外,孔隙率、平均孔径、颗粒表面状态、纯度等。对其光催化活性也有一定影响。为了提高光降解效率,对二氧化钛光催化剂进行了改性,如制备纳米二氧化钛、制备二氧化钛复合半导体、掺杂金属离子、敏化染料等。二氧化钛催化剂也可以通过各种先进的手段来制备,以提高光催化剂的活性。
空气中的氧分子被高能臭氧紫外光束分解,产生游离氧,即活性氧。由于自由氧携带的正负电子不平衡,氧分子结合产生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。众所周知,臭氧对有机物有很强的氧化作用,对恶臭气体和其他刺激性气味有立即去除作用。
uv光解除臭处理设备产品***点:
①运行成本低:设备能耗低(每1000m3/h处理仅0.54度电耗),无机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护,只需定期检查,设备抗风能力低。
②无预处理和环境要求:恶臭气体不需要加热、加湿等***殊预处理,设备在-300℃-950℃,温度30%-98%,PH值3-11条件下能正常工作。
③占地面积小,设备自重轻:适用于布局紧凑、场地狭小等***殊情况。设备的占地面积<1.5平方米/处理10000m3/h风量。
④***质材料制造:耐火耐腐蚀、性能稳定、使用寿命长等。
⑤环保高科技产品:我公司专家和工程技术人员经过长期反复试验开发的设备产品,能彻底分解恶臭气体中的有毒有害物质,达到完美的除臭效果。分解后的恶臭气体可以完全实现无害化排放,不会产生二次污染,实现高效快速的消毒灭菌。
⑥高效快速去除除臭:能高效快速去除挥发性有机化合物(VOC)、无机物、硫化氢、氨、硫醇等主要污染物,以及各种恶臭气味。除臭效率可达90%以上,除臭效果******超过***家恶臭污染物排放标准(GB14554-93)。
⑦无需添加任何物质:只需设置相应的排气管和排气动力,通过该设备对恶臭气体进行除臭、分解和净化,无需添加任何物质参与化学反应。
⑧适应性强:能适应高浓度、***气量、不同恶臭气体物质的除臭净化处理,可24小时连续工作,运行安全、稳定、可靠。