uv光解除臭设备的使用应注意什么?

uv光解除臭设备的使用应注意什么?

 

1. 高、低浓度、高气量、不同恶臭气体物质的除臭、污染处理可24小时进行，运行稳定可靠。恶臭气体不停机***殊处理，如加热、加湿等，设备工作环境温度在- 30℃- 95℃之间，湿度在30% ~ 98%之间，PH值在2 ~ 13之间均可正常运行。防火防腐功能高，设备功能安全稳定，使用不锈钢材料，设备使用寿命在15年以上。

1. 可用于高、低浓度气体脱臭污染的处理。***气中有多少恶臭气体物质和营销商。可连续24小时运行，运行平稳可靠。恶臭气体不需要停止参与预处理，如加热、加湿等。设备运行环境温度在30 ~ 95℃之间，湿度在30% ~ 98%之间。PH值在2到13之间。本设备防火防腐性能高，功能安全稳定，选用不锈钢材料，使用寿命15年以上。

2.TiO2光催化氧化设备能有效去除挥发性无机物(VOC)、无机物、硫化氢、氨、硫醇等初级净化器以及各种恶臭。除臭效果******超过1993年颁布的《恶臭净化器***家排放标准》(gb14554-93)。美***环境保护署(epa)公布的114种净化器的9***类均已被证明能够处理光催化氧化，甚至对原子无机化合物如卤代烃、燃料、含氮无机化合物、无机磷农药等具有******的去除效果。(TiO2催化剂使用寿命有限，无需交换即可延长)

2. 二氧化钛的光催化氧化设备可以有效地去除挥发性无机物(VOC),无机物质,硫化氢、氨、硫醇和其他主要的净化器,超过***家排放标准的1993年发布的气味净化器(gb14554 - 93)已被证明是能够被光催化氧化、甚至原子无机物的卤代烃,燃料,含氮无机物和无机磷农药。(二氧化钛催化剂使用寿命有限，不需人工更换)

Photooxygen催化设备

3.采用先进的一次氧化技术，突破了单一系统的回波约束。在整个反应体系中，O3和·OH两种氧化能力较强的氧化剂参与反应，脱臭效果较***。

选用先进的初级氧化技术，打破单一体系的反应限制。在整个反应体系中，存在两种氧化能力较强的氧化剂。其中o3和OH参与反应，使脱臭效果更***，矿化程度较高，气体恶臭、有害排放物多，且无二次电镀。

4. 本设备没有机器动作，没有音乐，不需要专人操作和日常维护，只需要做正点反射，本设备能耗低，设备的风阻很低< 50pa，可以节省***量的排气风能消耗。恶臭气体的变化如氨、三甲胺、硫化氢,硫化氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳、苯乙烯,硫化H2S,挥发性有机化合物、苯、甲苯、二甲苯、分子链结构,使无机或无机聚合物有气味的化合物分子链,在高能束暴露于太阳的紫外线,降解成低分子化合物,如二氧化碳、水等。

4. 该设备无机械动作，无音乐，无需***殊操作和日常维护，只需要做定时自省，能耗低，设备的风阻低，小于50pa，这可以节省***量的能源消耗的废气动力。分子链结构的无机或无机恶臭来氨、三甲胺、硫化氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳、苯乙烯,硫化H2S,挥发性有机化合物、苯、甲苯和二甲苯修改,和分子链的降解无机、无机有恶臭的低分子,二氧化碳和过氧化氢,在高能紫外线辐射。